- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
- LPCVD
- Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
- полупроводниковые приборы
EN
- LPCVD
- Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии. academic.ru. 2015.
